汞灯作为一种重要的光源，在工业固化、医疗杀菌、光刻曝光等领域有着广泛应用。但汞灯本质上是典型的点光源，其光线以球面向外辐射，在照射区域形成 “中心亮、边缘暗” 的不均匀分布，这种特性严重制约了其在高精度场景中的应用。因此，通过均光化技术将汞灯从点光源转化为面光源，成为提升其应用价值的关键。​

      汞灯的点光源特性带来的核心问题是光照均匀性差。在紫外固化工艺中，不均匀的光照会导致材料表面固化程度不一，出现局部过固化或欠固化现象，直接影响产品的力学性能和外观质量；在医疗杀菌领域，光照不均可能造成杀菌不彻底，留下卫生隐患。为解决这些问题，均光化技术通过光学调控手段，将点光源的发散光线转化为均匀的面光源输出，实现光照强度在目标面上的稳定分布。​

       实现汞灯从点光源到面光源的转变，需从光学元件设计、系统集成优化等多维度展开。​在光学元件设计层面，微透镜阵列是应用最广泛的均光器件之一。由数百个微型透镜组成的阵列，能将汞灯发出的光束分割为多个子光束，每个子光束经透镜聚焦后在目标面上形成独立光斑，通过调整透镜的曲率、间距和排列方式，可使子光斑相互叠加覆盖，抵消单点光源的强度差异。例如，在 LCD 曝光设备中，采用矩形微透镜阵列可使光照均匀性提升至 90% 以上，满足高精度曝光需求。​

      积分棒（又称光导管）则通过多次反射原理实现均光。汞灯光线进入积分棒后，在棒体内经内壁多次反射，使光线在传播过程中不断混合，最终从出口射出时形成均匀的面光源。积分棒的长度、横截面形状（如方形、圆形）会影响均光效果，通常长径比越大，光线混合越充分，均匀性越好。在紫外固化流水线中，搭配积分棒的汞灯系统能使固化区域的光照强度偏差控制在 5% 以内。​

      反光系统的优化同样不可或缺。传统汞灯多采用球面反光罩，虽能汇聚光线，但易在中心区域形成强光点。而抛物面反光罩可将光线平行导出，配合漫反射涂层，能有效削弱光斑中心的峰值强度。例如，在 PCB 板曝光工艺中，采用抛物面反光罩与微透镜阵列组合的方案，可使曝光面的光照均匀性提升至 95%，显著减少因光照不均导致的线路缺陷。​

      随着技术的发展，自适应光学系统开始应用于汞灯均光化设计。通过实时监测目标面的光照分布，利用可变形镜调整光路，能动态补偿因汞灯老化、温度变化等因素引起的均匀性波动。这种智能调控技术尤其适用于精密光刻领域，可将长期使用过程中的光照均匀性稳定在 98% 以上，大幅提升芯片制造的良率。​

      此外，多光源协同技术为大尺寸面光源提供了新思路。将多支汞灯按特定阵列排布，通过光学设计使各光源的照射区域相互叠加，结合边缘光强补偿算法，可实现数平方米范围内的均匀照明。该技术已成功应用于大型液晶面板的固化生产线，光照均匀性达到 92%，满足了大尺寸工件的加工需求。​

      汞灯均光化技术的发展，本质上是对光能量分布的精准调控。从早期的单一光学元件应用，到如今多技术融合的智能系统，每一步突破都推动着汞灯在高端制造领域的应用边界。未来，随着新材料（如纳米级光学涂层）、新算法（如人工智能光路优化）的引入，汞灯均光化技术将朝着更高均匀性、更广适应性、更低能耗的方向迈进，为工业生产的精密化、智能化提供更有力的光源支持。​

产品展示

      SSC-HM500-M23均光汞灯光源是专门针对紫外区的催化实验、光刻蚀、光催化、光降解、化学合成的研究级汞灯光源；光源内部安装500W 高压短弧球形汞灯，在高频高压激发下形成弧光放电，辐射出强而稳定的紫外区强烈光谱，能量密度高，输出稳定，适用于紫外区的光化学研究和光电的各种实验，特别适用于强光催化（如光降解及其他光催化研究）。

      光源可兼容多种规格、品牌、进口及国产滤光片及透镜（25.4mm，50.8mm，,M52，M62等），常用滤光片规格(紫外带通滤光片）：254nm，313nm，334nm，350nm，365nm，380nm，400nm，405nm。鑫视科可以提供各种规格石英滤光片、反光片、K9光学滤光片等。